Мощный 105 мм 405 нм 20W ультрафиолетовый волоконно -волоконно -соединенный лазерный модуль для литографического оборудования

Этот мощный лазерный модуль с фиолетовым оптоволокном длиной 105 мкм, длиной 405 нм и мощностью 20 Вт представляет собой основной компонент профессионального уровня, разработанный специально для литографического оборудования и сочетающий в себе характеристики высокоэнергетических фотонов фиолетового лазера с длиной волны 405 нм, высокую выходную мощность 20 Вт и прецизионную передачу по оптоволоконному кабелю 105 мкм. Он обеспечивает стабильную, сфокусированную лазерную энергию для экспонирования фоторезиста и создания микрорисунков, становясь ключевым элементом в полупроводниковых, печатных платах и ​​микроэлектронных литографических системах, обеспечивая высокоэффективную литографическую обработку с высоким разрешением.

Основные технические преимущества литографического оборудования

- Оптимизация литографии с длиной волны фиолетовой волны 405 нм: 405 нм — оптимальная длина волны для основных фоторезистов (положительный/отрицательный тон), обеспечивающая эффективное поглощение фотонов для запуска фотохимических реакций. Оптоволоконный лазер мощностью 405 нм и мощностью 20 Вт поддерживает субмикронное разрешение при литографической обработке, превосходя более длинные волны при точной визуализации рисунков, что критически важно для производства полупроводниковых микросхем и печатных плат высокой плотности.

- Высокая мощность 20 Вт для быстрой экспозиции: благодаря стабильной выходной мощности CW высокая мощность 20 Вт ускоряет скорость экспонирования фоторезиста на 40% по сравнению с модулями мощностью 10 Вт. Он сокращает время воздействия на единицу площади до ≤50 мс/см², отвечая требованиям высокой производительности массового литографического оборудования, обеспечивая при этом равномерное распределение энергии.

- Прецизионная передача с оптоволоконным соединением 105 мкм: оснащено кварцевым волокном диаметром сердечника 105 мкм (числовая апертура NA = 0,22, эффективность связи ≥85%), оно передает лазерную энергию с минимальными потерями. Небольшая сердцевина волокна обеспечивает сфокусированное пятно луча для точного формирования рисунка фоторезиста, а его гибкость позволяет выравнивать оптический путь литографического оборудования, достигая узких или сложных областей экспонирования.

- Стабильность и надежность литографического уровня: используется мощная полупроводниковая лазерная матрица и активная система охлаждения (водяное охлаждение + радиатор), поддерживающая стабильную работу при 20 ℃-25 ℃ (температура процесса литографии). Он поддерживает непрерывное воздействие 24 часа в сутки, 7 дней в неделю (срок службы >1000 часов) с дрейфом мощности ≤0,5%/1000 часов, что позволяет избежать искажений литографического рисунка, вызванных колебаниями напряжения.