Высокомощный лазерный модуль с оптоволоконным кабелем мощностью 10 Вт, длиной волны 375 нм

Высокомощный оптоволоконный лазерный модуль мощностью 10 Вт с длиной волны 375 нм — современный источник ультрафиолетового света, оптимизированный для современных литографических машин, включая системы прямой лазерной визуализации (LDI), безмасковые выравниватели и полупроводниковое фотолитографическое оборудование. Сочетая превосходное поглощение фоторезиста с длиной волны около УФ-излучения 375 нм, высокую выходную мощность 10 Вт и технологию прецизионного соединения волокон, этот модуль обеспечивает непревзойденную скорость экспонирования, разрешение и стабильность для микропроизводства полупроводников, печатных плат, светодиодных чипов и микрофлюидных устройств.

Основные преимущества точности и эффективности литографии

1. Длина волны в ближнем УФ-диапазоне 375 нм: оптимизация фоторезиста для создания рисунков с высоким разрешением

• Ближний УФ-свет с длиной волны 375 нм (допуск ± 2 нм) обеспечивает на 50–80% более высокую эффективность поглощения в фоторезистах с линиями g/h по сравнению с фиолетовыми лазерами с длиной волны 405 нм, обеспечивая субмикронное разрешение (до 0,5 мкм) и более острые края рисунка для производства полупроводников и печатных плат.

• Длина волны находится в пределах оптимального окна поглощения для большинства коммерческих фоторезистов, что сводит к минимуму потребность в энергии экспонирования и уменьшает искажения рисунка, вызванные нагреванием.

• Сверхузкая ширина спектральной линии (≤5 нм на полувысоте) обеспечивает стабильный отклик фоторезиста во всем поле воздействия, устраняя изменения рисунка, вызванные цветовым сдвигом.

2. Выходная мощность 10 Вт: ускоренная производительность литографии

• Выходная мощность непрерывного излучения 10 Вт по многомодовому оптоволокну 105 мкм/200 мкм (настраиваемая) обеспечивает высокую плотность энергии в плоскости воздействия, сокращая время воздействия на 60 % по сравнению с модулями мощностью 5 Вт для крупносерийных производственных линий.

• Благодаря интеграции с системой водяного охлаждения стабильность мощности ≤±0,5% в течение 8 часов обеспечивает равномерное воздействие на большие подложки, что имеет решающее значение для поддержания постоянного качества рисунка при серийном производстве.

• ШИМ-модуляция 0–100 % с временем отклика на уровне микросекунд обеспечивает точную литографию в оттенках серого и динамический контроль экспозиции для 3D-микроструктур.

3. Прецизионное оптоволоконное соединение: гибкая интеграция и равномерная подача луча

• Высокоэффективное оптоволоконное соединение (≥85%) минимизирует оптические потери, обеспечивая максимальную передачу мощности на систему сканирования литографической машины.

• Варианты длины волокна 2–10 м (кварцевое волокно УФ-класса с антибликовым покрытием) обеспечивают гибкую интеграцию в сложные литографические оптические пути без ущерба для качества луча.

4. Совместимость с системами интеллектуального управления и литографии.

• Цифровой интерфейс связи RS485 обеспечивает мониторинг и регулировку параметров мощности, температуры и модуляции в режиме реального времени, легко интегрируясь с контроллерами литографической машины.

• Модульная конструкция со стандартными оптоволоконными разъемами (FC/PC, SMA905) подходит для большинства коммерческих литографических машин, включая Raith PicoMaster, Heidelberg MLA150 и отечественные системы LDI.